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DSR300 微納器件測試系統(tǒng):精準測量 PtSe?/Si Pin 探測器光電性能的優(yōu)選設備

更新時間:2025-07-07點擊次數(shù):1157

導言

二維過渡金屬二硫化物(TMDs)由于其表面無懸垂鍵、可調(diào)節(jié)的帶隙和高載流子遷移率等特性,在光電器件領域具有巨大潛力。其中,二硒化鉑(PtSe2)被認為是制備高性能紅外光電探測器的理想材料之一。其層間可調(diào)帶隙范圍為0-1.2 eV,可通過改變薄膜厚度實現(xiàn)從半導體到半金屬的轉(zhuǎn)變,吸收光譜覆蓋可見光到中紅外波段。然而,目前報道的大多數(shù)2D-3D結合的器件均為p-n異質(zhì)結器件,采用輕摻雜或重摻雜的n型襯底,這既作為光吸收層,又作為載流子傳輸層,影響了載流子在n型體材料中的有效傳輸。同時,二維材料與輕摻雜或重摻雜的n型襯底的接觸界面存在較多缺陷,導致光生載流子在界面分離時存在嚴重復合損失,使得光電流與光功率之間的擬合值θ無法達到理想狀態(tài)。光電探測器的結構設計和界面優(yōu)化是實現(xiàn)高穩(wěn)定性、接近理想狀態(tài)以及寬光譜紅外探測的關鍵問題。

DSR300 微納器件測試系統(tǒng):精準測量 PtSe?/Si Pin 探測器光電性能的優(yōu)選設備

相關成果以“基于Si/SOI晶圓鍵合剝離的高質(zhì)量超純本征硅薄膜的穩(wěn)定自供電寬帶PtSe2/Si Pin 紅外光電探測器"為題發(fā)表。希望該研究能為您的科學研究或工業(yè)生產(chǎn)帶來一些靈感和啟發(fā)。

正文

二維過渡金屬二硫化物(TMDs)因其表面無懸垂鍵、可調(diào)帶隙和高載流子遷移率等特性,在光電器件領域備受關注。PtSe2 作為一種*具前景的 TMDs 材料,其帶隙可通過改變薄膜厚度在 0-1.2 eV 范圍內(nèi)調(diào)節(jié),覆蓋從可見光到中紅外譜區(qū)的吸收范圍。此外,PtSe2 具有高載流子遷移率和化學穩(wěn)定性,有助于實現(xiàn)快速響應時間和良好的空氣穩(wěn)定性。

過去五年中,研究人員致力于開發(fā)集成 PtSe2 與塊體材料的 p-n 異質(zhì)結光電探測器。例如,2021 年 Lu 等人在鍺(Ge)基底上構建了多層 PtSe2/Ge 異質(zhì)結光電探測器陣列;2022 年 Ye 等人通過引入約 3 nm 厚的 SiO2 絕緣層,制備了與 CMOS 兼容的 PtSe2/超薄 SiO2/Si 自驅(qū)動光電探測器;2023 年 Li 等人實現(xiàn)了二維 PtSe2 薄膜在鈍化 Ge 基底上的垂直生長,構建了 PtSe2/Ge 肖特基結光電探測器;2024 年 Wang 等人通過在銦磷(InP)晶片上垂直堆疊二維 PtSe2 薄膜,開發(fā)出自供電近紅外肖特基結光電探測器。然而,這些 2D-3D 結合器件均為 p-n 異質(zhì)結,且所用襯底為輕摻雜或重摻雜 n 型襯底,存在諸多缺陷,影響了載流子的有效傳輸,并導致光生載流子在界面分離時的復合損失嚴重,θ 值未能達到理想狀態(tài)。

鑒于此,本研究采用疏水鍵合技術實現(xiàn)無氣泡、高強度、無氧化層的 n+-Si/SOI 晶片鍵合,剝離出高質(zhì)量超純 i-Si 層,制備出新型 p-PtSe2/i-Si/n+-Si pin 光電探測器。該器件在室溫下實現(xiàn)了從 532 到 2200 nm 的寬譜探測,整流比高達 2.1×10?,θ 值在 3.5 mW 光功率范圍內(nèi)達到理想狀態(tài)的 1,響應度(R)和比探測率(D*)幾乎不依賴于功率,分別為 46.5 mA/W 和 1.94×1011 Jones,顯示出優(yōu)異的穩(wěn)定性,理想因子(n)低至 1.2,接近理想狀態(tài),激活能約為 0.52 eV,接近 Si 帶隙的一半,表明器件中的載流子傳輸為復合機制。這項工作首*將晶片鍵合與二維材料轉(zhuǎn)移相結合,構建范德華異質(zhì)結,為 2D-3D 硅基 pin 光電探測器的制造提供了新方法。

結果與討論

器件制備與結構表征

研究團隊采用疏水鍵合技術制備 i-Si/n+-Si 襯底。通過 RCA 方法對 SOI 晶片和 n+-Si 晶片進行清洗,然后浸泡在稀釋的 HF 溶液中獲得疏水表面,將兩者鍵合在一起,并在高溫管式爐中退火以實現(xiàn)高強度鍵合。通過機械研磨和化學腐蝕方法剝離出高質(zhì)量超純 i-Si 頂層,形成 i-Si/n+-Si 結構。接著,采用熱輔助轉(zhuǎn)換法(TAC)制備 PtSe2 薄膜,將其轉(zhuǎn)移至疏水鍵合的 i-Si/n+-Si 襯底上,完成 p-PtSe2/i-Si/n+-Si pin 光電探測器的制備。

DSR300 微納器件測試系統(tǒng):精準測量 PtSe?/Si Pin 探測器光電性能的優(yōu)選設備

圖1 (a)PtSe?薄膜的拉曼光譜。(b)沉積于SiO?/Si基底上的PtSe?薄膜的X射線衍射(XRD)圖譜。(c,d)PtSe?薄膜的X射線光電子能譜(XPS),分別為Pt 4f和Se 3d譜圖。(e)PtSe?薄膜的原子力顯微鏡(AFM)圖像。(f)PtSe?的透射電子顯微鏡(TEM)圖像。(g)覆蓋PtSe?薄膜的3英寸SiO?/Si基底的照片。(h)拉曼光譜中Y軸數(shù)據(jù)彩色映射的三維瀑布圖。(i)3英寸硒化物樣品的A?g/Eg峰面積與半高寬(FWHM)關系圖。

材料結構與晶體質(zhì)量分析

研究團隊使用拉曼光譜儀(ZOLIX, RTS-mini)、X 射線衍射儀(XRD Rigaku Ultima IV)、掃描聲學顯微鏡(CSAM, UESTAR, AM-300)等設備對 PtSe2 薄膜及器件的結構特性、晶體質(zhì)量、鍵合界面氣泡狀況及鍵合面積等進行了全面表征。結果表明,所制備的 PtSe2 薄膜具有高結晶度和單向取向,XPS 分析進一步確認了 Pt 和 Se 原子的化學成分和結合能,SEM 和 AFM 測試顯示 PtSe2 薄膜具有大面積均勻性和高質(zhì)量的表面形貌。

光電性能測試與分析

研究還對比了線性PEI(PEIL)、支化PEI(PEIB)和乙氧基化PEI(PEIE)的鈍化效果。結果表明,PEIE在溶液加工性和界面鈍化效果上具有最佳平衡。支化PEI雖然也能提升Voc,但對Jsc的影響較大;而線性PEI則對Voc提升有限。

DSR300 微納器件測試系統(tǒng):精準測量 PtSe?/Si Pin 探測器光電性能的優(yōu)選設備

圖2 (a)器件結構示意圖。(b)不同溫度下的I?V特性曲線.(c)活化能.(d)理想因子。(e?i)532至2200納米的光響應。

本文使用的拉曼探測系統(tǒng)是卓立漢光公司的RTS-mini 經(jīng)濟型光纖共焦拉曼系統(tǒng)。擁有Plug-in 特點的RTS-mini 共聚焦拉曼顯微系統(tǒng),可跟多種顯微鏡和光譜儀聯(lián)用,提供*佳的靈敏度和空間分辨率。除了在現(xiàn)有的顯微鏡上升級共聚焦系統(tǒng)外,通過靈活地配置光譜儀和探測器,可以打造出針對客戶應用的專屬系統(tǒng)配置。廣泛用于各類工業(yè)應用,如質(zhì)檢,安檢,刑偵,生物醫(yī)療,制藥等需要高拉曼靈敏度的應用領域,并且由于可提供免費的軟件開發(fā)包,并且提供Micromanager 接口,使得系統(tǒng)的后續(xù)開發(fā)及聯(lián)用工作可以輕松展開。

本文使用的光電測試系統(tǒng)是卓立漢光公司的DSR300微納器件光譜響應度測試系統(tǒng)。DSR300微納器件光譜響應度測試系統(tǒng)是一款專用于低微材料光電測試的系統(tǒng)。其功能全面,提供多種重要參數(shù)測試。系統(tǒng)集成高精度光譜掃描,光電流掃描以及光響應速率測試。40μm探測光斑,實現(xiàn)百微米級探測器的絕對光譜祥響應度測量。超高穩(wěn)定性光源支持長時間的連續(xù)測試,豐富的光源選擇以及多層光學光路設計可擴展多路光源,例如超連續(xù)白光激光器,皮秒脈沖激光器,半導體激光器,鹵素燈,氙燈等,滿足不同探測器測試功能的要求,是微納器件研究的優(yōu)選。

響應速度與穩(wěn)定性測試

研究團隊還對器件的響應速度和穩(wěn)定性進行了測試。在 -2 V 偏壓下,器件在 1000 Hz 光照頻率下的響應曲線顯示出較為穩(wěn)定的光電響應,上升時間和下降時間分別為約 70 μs 和 290 μs。經(jīng)過 1700 次重復刺激后,器件仍保持一致的光響應,光電流衰減極小,證明了器件具有良好的穩(wěn)定性和可重復性。

DSR300 微納器件測試系統(tǒng):精準測量 PtSe?/Si Pin 探測器光電性能的優(yōu)選設備

圖3(a)能帶結構圖。(b)時域光響應特性。(c)開路電壓與短路電流。(d)0 V和?2 V下的噪聲電流。(e)0 V和(f)?2 V下響應度與比探測度隨入射光功率的變化關系。(g)器件的線性動態(tài)范圍(LDR)。(h)光電流與光功率的擬合曲線。(i)本文與其它文獻中擬合參數(shù)的對比。

本研究通過結合傳統(tǒng)晶片鍵合技術和二維材料薄膜轉(zhuǎn)移技術,成功制備了 p-PtSe2/i-Si/n+-Si pin 光電探測器。該器件展現(xiàn)出優(yōu)異的光電性能和穩(wěn)定性,包括高整流比、低理想因子、寬譜響應以及理想的 θ 值等。與常規(guī) 2D-3D p-n 異質(zhì)結相比,高質(zhì)量 i-Si 層的引入增強了 p-PtSe2 與 Si 的粘附性,減少了界面缺陷復合,提高了器件穩(wěn)定性。這一成果為未來高性能 2D-3D 光電探測器的發(fā)展提供了新的理論見解和實驗基礎。

通訊作者及其團隊介紹

柯少穎,閩南師范大學物理與信息工程學院副教授,福建省光場操縱與系統(tǒng)集成應用重點實驗室成員。長期致力于低維材料光電器件領域的研究,主持和參與多項國家自然科學基金、福建省自然科學基金等項目,在 ACS Applied Materials & Interfaces 等期刊發(fā)表多篇高水平論文,為推動低維材料在光電器件領域的應用做出了重要貢獻。

相關產(chǎn)品推薦

本研究采用的是北京卓立漢光儀器有限公司RTS-mini 經(jīng)濟型光纖共焦拉曼系統(tǒng)以及DSR300微納器件光譜響應度測試系統(tǒng)如需了解相關產(chǎn)品,歡迎咨詢。

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